In der Halbleiterfertigung ist das Ätzen (Etching) einer der Kernprozesse, die die Genauigkeit des Mustertransfers und die Ausbeute bestimmen. Ob ICP-Ätzen (induktiv gekoppeltes Plasma), CCP-Ätzen (kapazitiv gekoppeltes Plasma) oder Hochdichte-Plasmasysteme für das Tiefätzen von Silizium, die Kammer, die Elektroden, das HF-Anpassnetzwerk und die Vakuumpumpeneinheit erzeugen alle während des langzeitigen Hochleistungsbetriebs enorme Wärmelasten. Wird die Wärme nicht rechtzeitig abgeführt und die Temperatur nicht präzise geregelt, driftet das Prozessfenster und die Ätzungsgleichmäßigkeit nimmt ab, im schlimmsten Fall werden Kammerdichtungen und Keramikbauteile beschädigt, was zum Ausschuss ganzer Wafer-Chargen führt. Getragen wird dieser kritische Kühlkreislauf vom hochreinen Kühlwasserschlauch, von Ingenieuren oft übersehen, aber unverzichtbar.
Beim ICP-Ätzen regt eine 13,56-MHz-HF-Stromquelle das Prozessgas zu einem Hochdichteplasma an, wobei Ionenbeschuss und Radikalreaktionen gleichzeitig auf der Waferoberfläche ablaufen. Die HF-Leistungsdichte kann mehrere W/cm² erreichen, und die Elektroden (meist aus Aluminiumlegierung oder Quarz mit Metallbasis) sowie die Kammerinnenwände nehmen ständig Wärme auf; auch Anpassgerät, Bias-Stromversorgung und Pumpe laufen unter Volllast. An einem 300-mm-Wafer-ICP-Ätzer beispielsweise muss der Kühlkreislauf mehrere Kilowatt Dauerleistung stabil abführen, und die Wassertemperaturschwankung muss innerhalb von ±1 ℃ bleiben, andernfalls driftet die Ätzrate (Etch Rate) und die Selektivität deutlich.
Halbleiterprozesse dulden keine Verunreinigung. Wenn die Innenwand herkömmlicher Industrieschläuche oder Edelstahlleitungen Metallionen (wie Fe, Cr, Ni) ausfällt, Partikel abgibt oder organische Flüchtige freisetzt, gelangen diese über das Deionisierte Wasser (DI-Wasser) in den Wärmeübertrager der Anlage und können die Kammer rückwärts kontaminieren oder Mikrokanäle verstopfen, was die Ausbeute direkt senkt. Daher verwenden Kühlsysteme für Ätzanlagen weit verbreitet 316L-Edelstahl der EP-Qualität (elektropoliert) oder hochreine Schläuche:
Neben der Materialreinheit müssen Kühlsysteme für Ätzanlagen strenge Zuverlässigkeitsprüfungen bestehen:
Um diese Anforderungen zu erfüllen, bringt KUNGFLEX (Kongfu / Jiangsu Kungfu Fluid Technology Co., Ltd.) die SQ300 Serie hochreiner Kühlwasserschlauch auf den Markt: aus 316L-Edelstahl, vollständig helium-leckgetestet mit Massenspektrometer und bestehend aus 5000 Zyklen Dauerfestigkeitstests; der Schlauchkörper ist innen und außen sauber behandelt, geeignet für Kühl- und Prozesswasserkreisläufe von Halbleiter-Ätz-, CVD-, Reinigungs- und Lithografieanlagen. Als Quellenfabrik mit 17 Jahren Erfahrung in der Herstellung von Fluidverbindern und ISO 9001:2015 Zertifizierung betreibt KUNGFLEX eine 2000㎡ Produktionswerkstatt in Nantong, Jiangsu, und bietet Halbleiteranlagenherstellern einen Service aus einer Hand: von der Auswahl, dem Musterbau bis zur Serienlieferung.
Bei der Ausstattung einer Ätzanlage mit Kühlwasserschläuchen sollte zunächst geklärt werden: ① Medium (DI-Wasser / Prozesskühlwasser) und Wassertemperaturbereich; ② Systemarbeitsdruck und Spitzenwert; ③ Anschlussform (VCR / Ferrule / Flansch); ④ Verlegungsraum und minimaler Biegeradius. Nach der Installation wird eine Helium-Leckprüfung und Druckprüfung für die Erstinspektion empfohlen; im Betrieb sollten Anschlüsse und der Außengeflechtzustand des Schlauches regelmäßig inspiziert werden, bei Undichtigkeit oder Korrosion des Außengeflechts umgehend ersetzt.
Ein hochreiner Kühlwasserschlauch sieht in einer Ätzanlage vielleicht nur wie "ein Rohr" aus, ist aber in Wahrheit ein unsichtbarer Wächter, der Prozessstabilität und Wafer-Ausbeute sichert. Die Wahl eines 316L hochreinen Kühlwasserschlauchs, der Reinigungsbehandlung, Helium-Lecktest und Dauerfestigkeitsprüfung durchlaufen hat, ist die Mindestanforderung für den zuverlässigen Betrieb jeder hochwertigen Ätzanlage. Wenn Sie Ihre Anlage mit der KUNGFLEX SQ300 Serie hochreiner Kühlwasserschlauch ausstatten möchten, kontaktieren Sie das KUNGFLEX-Technikteam für Auswahlunterstützung.